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該設備為雙室磁控濺射高真空鍍膜設備，設備主體由濺射室（低溫泵+干泵系統）、進樣室（分子泵系統）組合構成。通過安裝在進樣室的磁耦合傳動裝置，在真空狀態下將進樣室內的基片傳送至濺射室內進行鍍膜，鍍膜結束后又將基片取回進樣室，濺射室保持真空狀態運行，大大提高設備生產效率。

該設備具有-6Pa級的真空獲得能力。