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磁控濺射技術是一種先進的鍍膜技術，該技術一出現就在裝飾、光電、半導體等行業得到廣泛應用。它的最大優點是基片溫升低，成膜速度快，膜層致密，光潔，附著力強，能沉積各種金屬和非金屬材料。
    該設備通過磁控濺射技術在PET或PI等柔性薄膜基底上沉積金屬膜，介質膜或陶瓷膜，從而獲得功能性的膜層，主要應用于航天器用高性能柔性薄膜熱控涂層的研制。